DH450系列 真空镀膜机型号【上海双旭】
CK-J3R
射频磁控溅射镀膜装置主要用于大专院校本科实验教学与科研工作。可以制备各种硬质膜、金属膜、非金属、化合物等薄膜材料。可以进行直接溅射，亦可以实现反应溅射。
等离子体增强化学气相沉积设备主要用于制备氧化锌纳米线阵、太阳能薄膜电池、SiO2钝化膜、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC等介电、半导体及金属膜等。
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